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Discrete Random Dopant Fluctuation Impact on Nanoscale Dopant-Segregated Schottky-Barrier Nanowires

机译:离散随机掺杂物涨落对纳米级掺杂物隔离的肖特基势垒纳米线的影响

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摘要

The impact of discrete random dopant fluctuations on 10-nm-long high-performance Schottky-barrier (SB) dopant-segregated (DS) nanowire MOSFETs is investigated through nonequilibrium Green's function quantum simulations. Using DS, nanoscale SB-FETs could outperform standard doped source and drain FETs in terms of $I_{rm ON}/I_{rm OFF}$. By reintroducing dopants in SB, however, variability problems are unavoidable and will be strong, at least for thin-width SB-FETs, because of the dopant influence on the SB profile on which the tunneling current is quite sensitive.
机译:通过非平衡格林函数量子仿真研究了离散随机掺杂物波动对10 nm长的高性能肖特基势垒(SB)掺杂物隔离(DS)纳米线MOSFET的影响。使用DS,纳米级SB-FET可以在$ I_ {rm ON} / I_ {rm OFF} $方面胜过标准掺杂的源极和漏极FET。然而,通过在SB中重新引入掺杂剂,至少对于薄宽度的SB-FET而言,可变性问题是不可避免的并且会很严重,这是因为掺杂剂对隧道电流非常敏感的SB轮廓具有影响。

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