...
首页> 外文期刊>International Journal of Advanced Computer Research >Comparison of Conventional 6T SRAM cell and FinFET based 6T SRAM Cell Parameters at 45nm Technology
【24h】

Comparison of Conventional 6T SRAM cell and FinFET based 6T SRAM Cell Parameters at 45nm Technology

机译:常规6T SRAM单元和基于FinFET的45nm技术的6T SRAM单元参数的比较

获取原文
           

摘要

When working for low power application the main estimation is to reduce leakage components and parameters. This stanza explores a vast link towards low leakage power SRAM cells using new technology and devices. The RAM contains bi-stable cross coupled lat
机译:在低功率应用中工作时,主要估计是减少泄漏组件和参数。本节探索了使用新技术和器件通往低泄漏功率SRAM单元的广泛链接。 RAM包含双稳态交叉耦合lat

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号