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CMOS class-E power amplifier (1.8-GHz) with an additional thin-film technology

机译:具有附加薄膜技术的CMOS E类功率放大器(1.8 GHz)

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摘要

A 1.8-GHz power amplifier is implemented using the 0.18-;C;m Radio Frequency (RF) Complementary Metal Oxide Semiconductor (CMOS) process. An additional thin-film technology on a separate substrate is used to design the output matching network for high efficiency. To minimise the number of bond-wires, a single differential power stage is used. The output matching network was completed with the proposed load impedance transformer and an Metal Insulator Metal (MIM) capacitor using additional thin-film technology. The amplifier achieved a drain efficiency of 50.5% at a maximum output power of 31.6 dBm at 1.81 GHz.
机译:1.8 GHz功率放大器使用0.18-; C; m射频(RF)互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺实现。在单独的基板上使用附加的薄膜技术来设计输出匹配网络以提高效率。为了使键合线的数量最少,使用了一个差分功率级。输出匹配网络由拟议的负载阻抗变压器和采用附加薄膜技术的金属绝缘体金属(MIM)电容器完成。该放大器在1.81 GHz的最大输出功率为31.6 dBm时,其漏极效率达到了50.5%。

著录项

  • 来源
    《Circuits, Devices & Systems, IET》 |2010年第6期|p.479-485|共7页
  • 作者

    Park C.; Seo C.;

  • 作者单位

    School of Electronic Engineering, College of Information Technology, Soongsil University;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 14:16:46

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