机译:阴极功率,偏置电压和中频对溅射非晶碳膜结构和力学性能的相互作用
TU Dortmund Univ, Inst Mat Engn, Leonhard Euler Str 2, D-44227 Dortmund, Germany;
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TU Dortmund Univ, Inst Mat Engn, Leonhard Euler Str 2, D-44227 Dortmund, Germany;
TU Dortmund Univ, Expt Phys 2, Otto Hahn Str 4a, D-44227 Dortmund, Germany;
TU Dortmund Univ, Expt Phys 2, Otto Hahn Str 4a, D-44227 Dortmund, Germany;
TU Dortmund Univ, Expt Phys 2, Otto Hahn Str 4a, D-44227 Dortmund, Germany;
TU Dortmund Univ, Expt Phys 1, Otto Hahn Str 4a, D-44227 Dortmund, Germany;
TU Dortmund Univ, Expt Phys 1, Otto Hahn Str 4a, D-44227 Dortmund, Germany;
TU Dortmund Univ, Expt Phys 1, Otto Hahn Str 4a, D-44227 Dortmund, Germany;
Amorphous carbon; Mid-frequency magnetron sputtering; Design of experiments; Raman scattering; X-ray photoelectron spectroscopy; Synchrotron radiation;
机译:阴极电力,偏压和中频对溅射非晶碳膜结构和力学性能的相互作用效应
机译:通过使用中频脉冲偏置电压通过过滤的阴极真空电弧源通过滤光机真空电弧沉积在介电材料上沉积的四面体非晶碳薄膜的残余应力
机译:衬底偏压和衬底对不平衡磁控溅射沉积非晶碳膜结构性能的影响
机译:热处理对磁控溅射沉积的无定形碳氮膜结构,机械和摩擦学特性的影响
机译:通过聚合物源化学气相沉积合成的非晶碳化硅和碳氮化硅薄膜的表征。机械结构和金属界面性能
机译:前驱体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含Si和Ag的非晶碳复合膜的组织和性能的影响
机译:偏压和放电电流对DC磁控溅射沉积锡膜力学性能的影响