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声明
第1章绪论
1.1溅射镀膜技术的发展
1.2溅射镀膜技术的基本原理
1.3溅射镀膜的基本类型
1.4溅射膜的沉积过程
1.5磁控溅射镀膜工艺的研究状况
1.6非晶合金的研究及发展
1.7非晶形成机制
1.8非晶合金薄膜的制备
1.9本文的选题意义及研究的主要内容
第2章实验方法
2.1实验方法及技术路线
2.2主要实验设备
2.3主要测试分析仪器及方法
2.4样品的制备
第3章直流磁控溅射沉积工艺的研究
3.1直流磁控溅射工艺基本步骤及参数
3.2工作气体压强对膜层沉积量的影响
3.3溅射功率对膜层沉积量的影响
3.4溅射方式(共溅、分层溅射)对膜层沉积量的影响
3.5反溅射和负偏压对膜基结合力的影响
3.6负偏压对膜层生长方式的影响
3.7本章小结
第4章Zr-Ni、Zr-Cu非晶合金膜的制备及结构研究
4.1 Zr-Ni、Zr-Cu二元共溅合金膜的制备
4.2薄膜成分的测定
4.3 Zr-Ni、Zr-Cu二元共溅合金膜的结构研究
4.4 Zr-Ni二元共溅非晶合金膜的成分范围
4.5 Cu(Ni)的添加或取代对共溅非晶合金膜形成能力的影响
4.6 Zr-Cu二元共溅非晶合金膜的热稳定性研究
4.7本章小结
第5章多层金属溅射膜的固态非晶化反应
5.1固态非晶化反应试样的制备、退火温度及浸蚀剂的选择
5.2 Zr/Ni/Zr/Ni多层膜的扩散退火
5.3 Zr/Cu/Zr/Cu多层膜的扩散退火
5.4固态非晶化连接试验探索
5.5本章小结
第6章结论
6.1主要结论
6.2有待进一步解决的问题
参考文献
后记
攻读硕士学位期间论文发表及科研情况