机译:直流PECVD合成的掺硅的类金刚石碳膜的低宏观场发射
Thin Film & Nanoscience Laboratory, Department of Physics, Jadavpur University, Kolkata 700 032, India;
Si-DLC; EDX; XPS; field emission; Low-threshold;
机译:类金刚石碳膜的RF ICP PECVD工艺参数对直流偏置和发射光谱的影响
机译:溶胶-凝胶法合成Al掺杂SnO_2纳米晶薄膜的低宏观场发射
机译:PECVD合成的氯掺杂类金刚石碳薄膜的增强的场发射特性
机译:20.1:使用PECVD逐层技术沉积的氮-气-相掺杂无氢类金刚石碳膜的场发射特性
机译:类金刚石碳膜和金刚石膜的生长和特征:原子氢束的作用和电子场发射的研究。
机译:通过PECVD在金属合金基底上合成的碳纳米管场发射体用于X射线源应用中的定制紧凑型场致发射器件
机译:DC-PECVD沉积的金刚石碳薄膜的光学性质
机译:长径比和sp2 / sp3含量对Ns掺杂pECVD生长碳膜场发射性能的影响