Carbon; Chemical Vapor Deposition; Field Emission; Carrier Mobility; Experimental Data; Microstructure; Meetings; Tables(data);
机译:分析介电常数,以确定sp3 / sp2比率以及基片偏压对使用S弯曲过滤阴极真空电弧工艺生长的四面体非晶碳膜的光谱椭偏研究的影响
机译:来自不同SP3含量的金刚石状碳膜的电子场发射
机译:PECVD合成的氯掺杂类金刚石碳薄膜的增强的场发射特性
机译:长径比和SP〜2 / SP〜3含量对N_2掺入PECVD生长碳膜场发射性能的影响
机译:钯催化的碳(sp2)-碳(sp3)键形成。
机译:非晶氢化碳膜(a-C:H)精制可持续的聚己二酸对苯二甲酸丁二醇酯(PBAT)揭示了膜厚度随sp2 / sp3比率变化而变化的不稳定性
机译:长宽比和sp2 / sp3含量对Ns掺杂pECVD生长碳膜场发射性质的影响
机译:长径比和sp2 / sp3含量对Ns掺杂pECVD生长碳膜场发射性能的影响