机译:脉冲激光沉积srbi_2nb_2o_9薄膜的结构和光学性质
Faculty of Physics and Electronic Technology, Key Laboratory of Ferroelectric and Piezoelectric Materials and Devices of Hubei Province, Hubei University, Wuhan 430062, China;
srbi_2nb_2o_9 thin films; pulsed laser deposition; optical transmittance; optical band gap;
机译:激光脉冲能量对脉冲激光沉积Ga掺杂ZnO薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:脉冲激光沉积(PLD)技术在不同掺杂比下沉积(LixNi2-xO2)薄膜的结构和光学性质
机译:脉冲激光沉积(PLD)技术在不同退火温度下沉积的PbS薄膜的结构和光学性质
机译:各种激光脉冲能量下脉冲激光沉积ZnO薄膜的结构,表面形态和光学性能
机译:通过脉冲激光沉积法沉积的碲化铋和碲化锑薄膜的结构,电学和光学特性。
机译:飞秒脉冲激光沉积TiO2薄膜的相变形貌光学和电学性质
机译:各种激光脉冲能量下脉冲激光沉积ZnO薄膜的结构,表面形态和光学性能