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Efficient physical-thermal model for thermal effects in AlGaN/GaN high electron mobility transistors

机译:AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管中热效应的有效物理热模型

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摘要

This letter describes the thermal behavior of AlGaN/GaN high electron mobility transistors on different substrates thanks to a fully consistent physical-thermal model. Self-heating explains the drastic reduction in the current flowing from drain to source. It is shown that, in order to keep the material from significantly degrading at the gate exit, the maximum dissipated power must be limited to 7 W/mm, 13 W/mm, and 38 W/mm for silicon, silicon carbide, and diamond substrates, respectively. These results have been validated from experimental thermal measurements.
机译:这封信描述了由于完全一致的物理热模型而在不同衬底上的AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的热行为。自热解释了从漏极到源极的电流急剧减少。结果表明,为了防止材料在栅极出口显着降解,对于硅,碳化硅和金刚石,最大耗散功率必须限制为7 W / mm,13 W / mm和38 W / mm。基板。这些结果已通过实验热测量得到验证。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2012年第12期|p.1-3|共3页
  • 作者单位

    Institute of Electronics, Microelectronics and Nanotechnology, Sciences and Technologies University of Lille, Villeneuve D'Ascq Cedex 59652, France;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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