机译:亚化学计量的氮化硅薄膜产生二次谐波辐射
Department of Electrical and Computer Engineering and Photonics Center, Boston University, 8 Saint Mary''s Street, Boston, Massachusetts 02215, USA;
annealing; optical harmonic generation; silicon compounds; stoichiometry; thin films; 4265Ky; 7866Nk; 8140Gh;
机译:亚化学计量的氮化硅薄膜产生二次谐波辐射
机译:氢化非晶氮化硅薄膜的二次谐波产生分析
机译:材料组合物从氮化硅膜中提高散装二谐膜的增强
机译:氮化硅膜中强烈的三次谐波产生
机译:使用常规和五极外延生长工艺在氢(6)-碳化硅(0001)和硅(111)衬底上生长氮化镓和氮化铝镓薄膜。
机译:关于氮化硅覆层硅波导中二次谐波的产生
机译:通过材料成分增强由氮化硅膜产生的体二次谐波
机译:氮化硅薄膜硅用于辐射硬化介质隔离mIsFET。