机译:Ge和应变Si沟道超薄金属氧化物半导体场效应晶体管中的电子迁移率
Natl Univ Singapore, Dept Elect & Comp Engn, Silicon Nano Device Lab, Singapore 119260, Singapore;
SILICON INVERSION-LAYERS; INTERFACE ROUGHNESS; SURFACE-ROUGHNESS; QUANTUM-WELLS; MONTE-CARLO; TRANSPORT; MOSFETS; SCATTERING; GERMANIUM;
机译:具有(001)或(111)Si表面沟道的超薄体单栅极和双栅极绝缘体上金属-氧化物-半导体场效应晶体管的声子有限电子迁移率的经验模型
机译:沟道热载流子退化对应变Si p沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的处理依赖性
机译:绝缘体超薄金属硅氧化物半导体场效应晶体管中电子迁移率的实验研究
机译:质子辐照能量在AlGaN / GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管中的作用研究
机译:辐照损伤对GaN基金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管和β-GA2O3的影响
机译:AlN /蓝宝石模板上的薄沟道AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管中的高横向击穿电压
机译:ZrO2门控n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管中沟道迁移率的温度依赖性降解机理
机译:低于100纳米沟道长度的金属氧化物半导体场效应晶体管的电子速度过冲在77和30 K