机译:在Ge上生长的Sn含量高达15%的假晶GeSn层中的伽马带隙测定
CEA-INAC, Univ. Grenoble Alpes, 17 rue des Martyrs, 38000 Grenoble, France;
CEA-LETI, Univ. Grenoble Alpes, 17 rue des Martyrs, 38000 Grenoble, France;
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机译:分子束外延生长拟态GeSn合金的近带隙光学性质
机译:锡含量为6%-15%的GeSn层中拉曼光谱位移与应变和组成的关系
机译:高SN含量GESN层的SN相关VARSHNI参数的实验校准
机译:用锗烷(Geh_4)或Digermane(Ge_2H_6)作为Ge前体和四氯化锡(SnCl_4)作为Sn前体的纯度晶体Gesn层外延
机译:高速含量GESN合金朝向室温中红外激光
机译:通过快速熔化生长在绝缘体上实现无缺陷的高锡含量GeSn
机译:拉曼光谱偏移与Gesn层中的应变和成分有: sn含量为6%至15%