机译:使用三维倒金字塔锥体AlGaN / GaN表面的低电阻无栅极高电子迁移率晶体管
Department of Aeronautics and Astronautics, Stanford University, Stanford, California 94305, USA;
Department of Aeronautics and Astronautics, Stanford University, Stanford, California 94305, USA,Department of Electrical Engineering, Stanford University, Stanford, California 94305, USA;
机译:在具有AlN夹层的未掺杂AlGaN / GaN基高电子迁移率晶体管上开发的低电阻欧姆接触
机译:在具有光增强化学和等离子体增强原子层沉积氧化物的倒梯形三栅极AlGaN / GaN MOS高电子迁移率晶体管中,由栅极面积和栅极凹槽控制的阈值电压
机译:低位错密度块状GaN衬底上AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的可靠性:表面台阶边缘的含义
机译:新的离子与log(Ig)图的开发,以表征耗尽模式高电子迁移率晶体管,随着将非常薄的蒸发的Al层插入AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管作为示例
机译:热,应变和中子辐照对AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管和GaN肖特基二极管中缺陷形成的影响
机译:具有再生欧姆接触的半绝缘Ammono-GaN衬底上的AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管
机译:低位错密度块状GaN衬底上AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的可靠性:表面台阶边缘的含义
机译:si,GaN和alGaN / GaN高电子迁移率晶体管(HEmT)晶片的非接触迁移率,载流子密度和薄层电阻测量。