border trap HfAlO high-k interface trap;
机译:HfO2 / SiO2纳米层压板的原子层沉积,表征和介电性能,并与它们的均质混合物进行比较
机译:氧化硅上HfO2栅极介电层的原子层沉积的成核和生长:多尺度建模研究
机译:原子层沉积HfO2覆盖层对多孔低介电常数材料的影响
机译:在InAlAs衬底上通过原子层沉积生长的HfO2 / Al2O3栅介电纳米堆叠的表征
机译:基于快速光热过程的原子层沉积(ALD)系统对高性能栅极介电材料进行处理和表征。
机译:HtO2 / TiO2 / HfO2三层结构RRAM器件在原子层沉积制备的Pt和TiN涂层衬底上的双极电阻转换特性
机译:Al的掺入对原子层沉积HfO2在栅极介电应用中热稳定性的影响