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王丹; 卢钦; 时亚茹;
重庆能源职业学院 能源工程系,重庆 402260;
长城汽车股份有限公司,河北 保定 071000;
MOCVD; 化学模型; AlN; 数值模拟;
机译:AlN中间层的生长温度对MOCVD法生长AlN的生长方式的影响
机译:通过MOCVD改进的具有Mg-Si共掺杂对的AlN异质外延层的脉冲生长和失配应变释放
机译:通过改进的流动调制MOCVD在c面蓝宝石衬底上生长的Al和N极性AlN层
机译:AlN缓冲剂对MOCVD在蓝宝石衬底上生长AlN薄膜性能的影响
机译:晶格匹配InxAl 1-xN与GaN的Vegard定律的验证以及用于深紫外LED的AlxGa1-xN / AlN的MOCVD生长
机译:生长过程中的气相化学反应机理高温MOCVD中AlN的热力学研究
机译:使用金属化学气相沉积(MOCVD)在低压下在低压下的Aln单层在蓝宝石上的生长
机译:用于UV光电探测器应用的GaN,alN和alGaN的mOCVD生长。
机译:伴随生长的高质量非极性特性III族氮化物光学器件(MOCVD)的有机金属化学气相生长方法
机译:由于有机金属化学气相生长法(MOCVD)而具有均匀的非极性特性{1100} m表面氮化镓的生长方法和装置
机译:AlN晶体基质的生产方法,AlN晶体的生长方法和AlN晶体基质
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