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王启元;
中国科学院半导体研究所;
CMOS; 硅外延技术; 硅外延片; 半导体器件; 集成电路;
机译:将硅和氧离子注入到蓝宝石衬底上的异质外延硅层中对CMOS IC SOS技术的n沟道晶体管泄漏电流的影响
机译:评估嵌入式多孔硅层对外延层的整体寿命以及外延层/多孔硅界面处界面复合的影响
机译:CCD和CMOS成像器传感器的硅外延层:在线和离线金属检测技术的局限性和挑战
机译:通过使用多晶硅二极管在CMOS技术中使用多晶硅二极管进行芯片应用的片上的ESD保护设计
机译:亚微米硅CMOS电路与硅上砷化镓异质外延的兼容性。
机译:具有片上系统应用混合传感器/存储器特性的CMOS兼容多晶硅纳米线器件
机译:使用外延硅敏感区域的集成X射线和带电粒子有源像素CmOs传感器阵列
机译:硅外延片和硅外延片杂质吸收能力的评估方法
机译:硅外延片的制造方法,硅外延片和固态成像装置的制造方法
机译:生产硅外延片的方法及硅外延片
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