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周崇喜; 冯伯儒;
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室;
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重;
相移掩模; 衰减; 计算机掩模; 软件设计; IC;
机译:高级光学光刻中减毒相移掩模的三维掩模效应研究
机译:使用现有光掩模制造能力制造用于EUV光刻的自对准交替相移光掩模的简单方法
机译:用于极端紫外线的衰减相移掩模:它们可以减轻三维掩模的影响吗?
机译:通过聚焦离子束技术修复0.35um i线衰减相移掩模(PSM)
机译:用于相移掩模设计的广义逆光刻方法。
机译:形成Nb1.45Si2.7Ti2.25Al3.25Hf0.35和Nb1.35Si2.3Ti2.3Al3.7Hf0.35合金的氧化铝鳞的微观结构和等温氧化
机译:极端紫外线的减毒相移掩模:它们是否可以减轻三维掩模效果?
机译:开发亮峰增强型X射线相移掩模BpEXpm
机译:制造相移掩模空白的方法,制造相移掩模,相移空白和相移掩模的方法以简单地制造具有所需成分和所需质量的低缺陷相移层的简单相移掩模空白
机译:相移掩模坯料,相移掩模,曝光方法,器件制造方法,相移掩模遮光器制造方法,以及相移掩模制造方法
机译:相移掩模坯料的制造方法,相移掩模坯料的制造方法,相移掩模坯料和相移掩模
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