125mm铝栅CMOS工艺技术开发及其应用

摘要

铝栅CMOSIC作为一种功能较简单，性能比较低，集成度不高的低挡IC产品，长期以来一直采用75～100mm图片材料进行图片加工。本文阐述了一种采用125mm图片，与3μm硅极CMOS大生产线完全兼容的铝栅CMOS工艺技术。详细地讨论了它的开发过程及其技术特点，以及在产品生产上的应用前景。