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杨淑凌; 郭洪吉; 刘泽汉; 刘军山;
大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室 辽宁大连 116024;
氧等离子体; 聚二甲基硅氧烷; 光刻胶; 裂纹;
机译:使用牺牲性光刻胶制造的表面微加工PDMS微流体器件
机译:厚的单层正性光刻胶模具和聚二甲基硅氧烷(PDMS)干法蚀刻,用于制造玻璃PDMS-玻璃微流体器件
机译:用于亚微米级大面积接触光刻的软PDMS /金属膜光刻胶及其在图案化蓝宝石衬底上的应用
机译:通过AFM光刻在光刻胶和PDMS表面中的光子结构
机译:偶氮苯开关单元推导出μ转印印刷PDMS的表面改性
机译:可重复使用的表面增强拉曼光谱基片该基片由硅纳米线阵列制成并涂有通过金属辅助化学蚀刻和光子还原技术制备的银纳米颗粒
机译:基于PDMS的基于PDMS的微流体系统的表面改性
机译:用于低表面能应用的pDms弹性体的原位和后固化表面改性。
机译:曲率定义的凹凸和凸PDMS表面用于细胞和组织培养和其他表面和界面应用
机译:图形化的编码方法,图形化的解码装置的方法,图形化解码装置的图形化,图形化,图形化的编码程序,以及图形化的解密程序
机译:材料结构例如晶片加工包括在晶片表面上和剩余的光刻胶上涂覆涂料,并去除光刻胶,使得材料仅保留在光刻胶表面的一个区域
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