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李东海; 胡明; 张伟; 崔梦;
天津大学电子信息工程学院,天津,300072;
多孔硅; 孔隙率; 电化学腐蚀; 显微拉曼光谱; 热导系数; 绝热层;
机译:多孔硅层和氧化的多孔硅层的孔隙率和厚度表征-紫外-可见-中红外椭圆光度法研究
机译:实验参数对多孔硅层和氧化多孔硅层物理性能的影响
机译:双层“多孔硅 - 绝缘体”结构中埋地隔离硅二氧化层的形成与性能
机译:双罐电化学蚀刻电池阳极氧化电流密度形成纳米多孔硅层孔隙率和光致发光性能研究
机译:铁金属间化合物和孔隙率对铝硅铜合金和铝硅镁镁铸造合金的拉伸和冲击性能的影响。
机译:消灭具有不同孔隙率的双层多孔硅双层膜的所需层中的孔
机译:多孔硅层和氧化的多孔硅层的孔隙率和厚度表征–紫外-可见-中红外椭圆光度法研究
机译:多孔硅埋层和表层的孔隙率测定
机译:多晶硅:硅CMP处理高密度DRAM存储器单元结构-包括沉积第一和第二绝缘层,第一和第二多晶硅:第三绝缘层,去除多余的第二多晶硅:和第三绝缘层,形成电介质并沉积第三多晶硅:硅
机译:含多孔凝胶的液体的制备方法,含多孔凝胶的液体的制备方法,高孔隙率层的制备方法,高孔隙率的多孔体的制备方法以及层状薄膜卷的制备方法
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