Ethanol; Aluminum; Photoluminescence; Silicon; Etching; Coatings; Current density;
机译:刻蚀电流密度对多孔硅层形貌和Sn / PS / p-Si / Al双结电性能的影响
机译:在极稀的HF溶液中通过电化学刻蚀制备的多孔硅层的光致发光特性
机译:在极稀的HF溶液中通过电化学刻蚀制备的多孔硅层的光致发光特性
机译:具有光电化学阳极氧化最佳刻蚀时间的多孔硅纳米结构的电致发光和光致发光特性
机译:电化学蚀刻锗和砷化镓形成的多孔层,用于高能效多结太阳能电池的分裂工程层转移(CELT)应用。
机译:p型GaAs电化学刻蚀形成的纳米多孔层的化学组成
机译:在极稀的HF溶液中通过电化学蚀刻制备的多孔硅层的光致发光特性
机译:高乙烯基硅氧烷胶中多孔硅氧烷的性质与孔隙率的函数关系(参照sE54胶)(密度,孔隙率,挠度,压缩变定)