MOCVD法制备Hf02薄膜前驱体的研究现状

摘要

HfO2薄膜是一种新兴的薄膜材料，在耐高温保护涂层、微电子、催化等领域有着非常重要的应用。HfO2薄膜优异的性能及广阔的应用前景已经引起人们极大的关注。介绍了MOCVD法制备HfO2薄膜前驱体的研究进展和现状，着重讨论了MOCVD工艺中各类前驱体的优缺点，概述了目前研究的热点和进一步研究的方向。最后得出结论：目前使用较多的β-二酮类铪配合物自身存在许多不利于MOCVD工艺的缺点，因此混合配体的铪配合物成为进一步研究的焦点。