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李嘉锐; 胡泓;
哈尔滨工业大学(深圳)机电工程与自动化学院 广东深圳518055;
光刻胶膜厚; 薄膜干涉; 干涉条纹自动计数算法; 单色光干涉; 相对光强原理;
机译:通过单色光干涉法同时测量覆盖有透明膜的物体的膜厚和表面形状
机译:集成工具,用于厚光刻胶膜的铺展,热处理和原位过程监控
机译:光刻胶膜厚均匀性的实时预测控制
机译:光刻胶膜厚均匀性的迭代反馈调整控制
机译:使用新型厚光刻技术的基于MEMS的磁性微结构和传感器。
机译:基于双通道正交解调的外差式激光干涉仪非线性测量方法
机译:用于亚微米图形光刻的氧化物光刻胶膜的物理性质
机译:EIa(电子工业协会)委员会讨论的显示监视器测量方法JT-20,第1部分:单色CRT监视器性能,2.0版
机译:激光干涉光刻中的曝光光束相位测量方法,以及光刻系统
机译:光刻胶膜形成材料,光刻胶膜形成用组合物,光刻胶膜,图案形成方法和纯化方法
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