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袁加勇; 陈钰清;
不详;
非晶硅; 薄膜; 激光; 化学气相沉积;
机译:低温催化化学气相沉积(<150℃)和激光晶化的非晶硅膜沉积在多晶硅薄膜晶体管中的应用
机译:厚度对准分子激光诱导结晶过程中低压化学气相沉积非晶硅膜微结构演变的影响
机译:催化化学气相沉积/激光烧蚀混合工艺制备(Er,O)掺杂的氢化非晶硅薄膜的O / Er含量比与光致发光强度的相关性
机译:石英衬底上激光沉积化学气相沉积的非晶硅薄膜制成的薄膜晶体管
机译:从乙硅烷中低压化学气相沉积非晶硅:氢。
机译:193 nm ArF受激准分子激光在激光辅助等离子体增强SiNx的化学气相沉积中的作用以进行低温薄膜封装
机译:通过等离子体增强的化学气相沉积生长保形氢化非晶硅层的有效钝化黑色硅表面
机译:低温下非晶硅的激光光化学生长及热化学气相沉积的比较
机译:利用激光化学气相沉积形成钴层的方法和激光化学气相沉积装置
机译:金属有机化学气相沉积方法,金属有机化学气相沉积设备,程序,记录介质,半导体激光生产方法,表面发射激光,光学扫描仪,图像形成装置,光学传输模块和光学传输
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