机译:通过等离子体增强的化学气相沉积生长保形氢化非晶硅层的有效钝化黑色硅表面
机译:电感耦合等离子体化学气相沉积法形成氢化非晶硅层及其在p型结晶硅表面钝化中的应用
机译:自由基掺杂n〜+背表面场层对通过化学气相沉积沉积的非晶硅钝化层的结晶硅有效少数载流子寿命的影响
机译:通过等离子体增强化学气相沉积双层富硅氧氮化硅和氮化硅的表面钝化结晶硅
机译:新一代等离子体增强化学气相沉积反应器中薄的内在非晶硅通过薄的内在非晶硅钝化单晶硅钝化的均匀性和质量
机译:通过远程等离子体增强化学气相沉积沉积非晶硅和硅基电介质:在制造TFT和MOSFET中的应用
机译:CVD石墨烯上等离子增强化学气相沉积法制备的无转移反型石墨烯/硅异质结构
机译:等离子体处理期间的表面粗糙化增强了氢化非晶硅在晶体硅基板上的化学气相沉积。
机译:通过远程等离子体增强化学气相沉积(远程pECVD)生长的非晶硅合金中缺陷产生的基础研究。年度分包合同报告,1990年9月1日 - 1991年8月31日