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郑志霞; 冯勇建; 张春权;
厦门大学机电工程系;
厦门大学萨本栋微机电研究中心;
感应耦合等离子体; 干法刻蚀; 选择比; 微电子机械系统;
机译:ICP Cl_2 / Ar / N_2等离子体混合物对InP刻蚀的建模:N_2对刻蚀各向异性演化的影响
机译:使用ICP低温反应离子刻蚀工艺对硅进行浅而深的干法刻蚀
机译:纳米结构光子器件制造中的ICP干法刻蚀技术研究
机译:使用ICP-AES和各种表面分析技术研究印度和美国大米样品中的有毒金属水平。
机译:冷冻刻蚀和冷冻断裂技术研究小鼠乳腺肿瘤病毒的包膜
机译:通过ICP-RIE氧化和湿法刻蚀可控制刻蚀速率的AlGaN / GaN的精密凹槽
机译:电感耦合等离子体(ICp)干蚀刻中三氯化硼/氯气体分子外延生长p型氮化铝镓的刻蚀特性及表面分析
机译:可以通过ICP型刻蚀设备有效去除相移掩模上残留的抗蚀剂的相移掩模的制备方法
机译:ICP刻蚀设备的统一性
机译:利用多模天线技术的ICP刻蚀设备形成半导体器件沟槽的方法
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