ICP刻蚀中的二级台阶刻蚀研究

摘要

主要研究了硬盘磁头滑块二级台阶的刻蚀实验。首先研究了ICP刻蚀的刻蚀原理,然后根据二级台阶掩模版的设计要求,设计出掩膜版的图形,并通过ICP刻蚀机加工出磁头滑块。结果表明所提出的二级台阶的刻蚀工艺是合理的,且具有普遍性。