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刘思鹏; 邓湘云; 李德军;
天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300387;
磁控溅射; TiB2/TiAlN纳米多层膜; 调制比; 硬度;
机译:调制周期和调制比对IBAD制备的纳米级TiAlN / TiB _2多层结构和力学性能的影响(会议论文)
机译:阐明TIB2体积百分比对Al5083-Tib2复合材料的机械性能和腐蚀行为的影响
机译:调制比对TiB_2 / TiAlN多层涂层结构和力学性能的影响
机译:反应磁控溅射沉积TiAlN / Si3N4纳米多层膜的微观结构,力学性能和热稳定性
机译:电纺聚己内酯支架:机械性能,比对定量和拓扑诱导的基因表达。
机译:TiB2颗粒增强的HVOF沉积Fe3Al涂层的摩擦机械性能
机译:退火(900、1300)ºC后的非晶态涂层AlN-TiB2-TiSi2的结构特征及其对物理机械性能变化的影响
机译:TiB2渗透阻力的实验研究(实验211 Undersoekning av penetrationsmotstandet TiB2)
机译:碳水化合物组合物对血糖反应的影响比对血糖反应的影响更大
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