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声明
第一章绪论
1.1引言
1.2硬质薄膜
1.3超硬纳米多层膜
1.3.1超硬纳米多层膜的研究背景
1.3.2超硬纳米多层膜的研究现状
1.4固态薄膜的常用制备技术
1.5本文的研究背景和意义
1.6本文研究的内容
第二章实验原理与测试方法
2.1离子束溅射与离子束辅助沉积
2.1.1溅射的基本原理
2.1.2离子束溅射
2.1.3离子束辅助沉积
2.1.4考夫曼离子源
2.2薄膜的结构测试方法
2.2.1 X射线衍射(XRD)分析
2.2.2俄歇电子能谱(AES)分析
2.3薄膜的力学性能测试方法
2.3.1薄膜的厚度、残余应力测试
2.3.2薄膜的硬度测试
2.3.3薄膜与基底的结合力测试
2.3.4薄膜的摩擦性能测试
第三章ZrN/TiAlN纳米多层膜的结构和力学性能
3.1 ZrN/TiAlN纳米多层膜的制备
3.2实验参数对ZrN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响
3.2.1调制周期对ZrN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响
3.2.2调制比例对ZrN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响
3.2.3离子轰击能量对ZrN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响
3.2.4束流和基底温度对ZrN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响
3.3部分薄膜的多层结构分析
3.3.1薄膜的小角X射线衍射(LA-XRD)分析
3.3.2薄膜的扫描电子显微镜(SEM)分析
3.3.3薄膜的俄歇电子能谱(AES)分析
3.4薄膜与基底结合力划痕测试结果分析
3.5 ZrN/TiAlN纳米多层膜的致硬机理分析
3.6本章小结
第四章CNx/TiAlN纳米多层膜的结构和力学性能
4.1 CNX/TiAlN纳米多层膜的制备
4.2 CNx/TiAlN纳米多层膜的结构分析
4.2.1多层膜的小角X射线衍射(LA-XRD)分析
4.2.2多层膜的俄歇电子能谱(AES)分析
4.2.3薄膜的高角度XRD分析
4.3 CNx/TiAlN纳米多层膜的力学性能分析
4.3.1 CNx/TiAlN多层膜的残余应力分析
4.3.2 CNx/TiAlN多层膜的硬度分析
4.3.3 CNx/TiAlN多层膜的摩擦性能分析
4.3.4薄膜的膜基结合力分析
4.4 CNx/TiAlN纳米多层膜的生长方式和致硬机理分析
4.5本章小结
第五章问题与展望
参考文献
硕士在读期间发表的论文
硕士在读期间获得的奖励
硕士在读期间参加的会议
致谢