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刘思鹏; 亢原彬; 王晖; 李德军; 邓湘云;
天津师范大学物理与电子信息学院;
射频磁控溅射; TiB2/TiAlN纳米多层膜; 调制周期; 硬度;
机译:TiB_2 / TiAlN多层膜的调制比决定退火对硬度,残余应力和断裂强度的影响
机译:调制周期和调制比对IBAD制备的纳米级TiAlN / TiB _2多层结构和力学性能的影响(会议论文)
机译:调制比对TiB_2 / TiAlN多层涂层结构和力学性能的影响
机译:锡/ TiAln纳米多层涂层多循环纳米狭窄研究:机械性能和涂层结构的影响
机译:界面对多晶多层膜的稳定性和机械性能的影响。
机译:期望的调制周期和比例下的纳米级ReB2 / TaN多层膜的界面模型和表征:第一性原理计算和实验研究
机译:1尺寸对纳米W / Cu多层膜机械性能的影响
机译:纳米周期X射线多层膜的微结构 - 界面 - 性质关系
机译:TiAlN膜和TiAlN膜成型体
机译:在具有多层可光成像干膜的MEMS器件和纳米器件上保持机械性能的方法
机译:含TiAlN纳米层膜的耐磨PVD工具涂层
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