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孔欣; 陈勇波; 董若岩; 刘安; 汪昌思;
中国电子科技集团公司 第二十九研究所 四川 成都 610036;
成都海威华芯科技有限公司 四川 成都 610299;
氮化镓高电子迁移率晶体管; 栅工艺; 电感耦合等离子体刻蚀; 性能提升 ; 可靠性;
机译:超薄GaN / AlN / GaN溶液栅场效应晶体管,在低源栅电压下具有增强的分辨率
机译:纳米击键栅AIGaN / GaN HFET中异常栅漏电流和栅可控性的研究。
机译:使用带隙工程高k隧道屏障的金属浮栅存储器性能提升
机译:氮结合的氧化f栅介电薄膜和钛基金属栅电极用于双栅应用。
机译:栅漏电流在AlGaN / GaN肖特基栅HFET和MISHFET中引起的陷阱
机译:具有重掺杂n + -GaN欧姆接触2DEG的自对准栅GaN-HEmT。
机译:使用MBE再生P-GaN单栅结构GaN-JFET设备的方法
机译:具有与c-AlGaN覆盖层绝缘的栅电极的常关立方相GaN(c-GaN)HEMT
机译:自对准侧壁栅GaN HEMT的栅金属化方法
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