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International symposium on dielectrics for nanosystems
International symposium on dielectrics for nanosystems
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1.
Preface
机译:
前言
作者:
D. Misra
;
D. Bauza
;
Z. Chen
;
K. Sundaram
;
Yaw Obeng
;
T. Chikyow
;
H. Iwai
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
2.
A Study of Electrical and Optical Properties of Boron-Doped Amorphous Silicon Deposited By RF-PECVD with Different B2H6/H2 Flow Rates
机译:
用不同B2H6 / H2流速沉积的RF-PECVD沉积硼掺杂非晶硅的电和光学性质研究
作者:
G. Dushaq
;
N. EL-Atab
;
M. Rasras
;
A. Nayfeh
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
3.
Numerical Investigation on Atomic Migration Effect on Thermal Conductivity of Al/Cu Interface Structures in Electronic Interconnection Packaging
机译:
电子互连包装中AL / Cu接口结构导热率的原子迁移效应的数值研究
作者:
L. Q. Zhang
;
D. H. Ge
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
4.
Dry and Wet Processed Interface Layer in Ge/High-K Devices studied by Deep Level Transient Spectroscopy
机译:
深水平瞬态光谱研究的GE / HIGH-K器件中的干湿处理界面层
作者:
Y. M. Ding
;
D. Misra
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
5.
Performance Enhancement of Metal Floating Gate Memory By Using a Bandgap Engineered High-k Tunneling Barrier
机译:
使用带隙工程高k隧道屏障的金属浮栅存储器性能提升
作者:
Dandan Jiang
;
Lei Jin
;
Zhiliang Xia
;
Guoxing Chen
;
Xingqi Zou
;
Yu Zhang
;
Zhaoyun Tang
;
Zongliang Huo
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
6.
Performance Analysis of InAs/AlSb MOS-HEMT by Self-Consistent Capacitance-Voltage Characterization and Direct Tunneling Gate Leakage Current
机译:
自一致电容 - 电压特性和直接隧道闸门漏电流INAS / ALSB MOS-HEMT的性能分析
作者:
Imtiaz Ahmed
;
Sayema Chowdhury
;
Hasibul Alam
;
Iftikhar Ahmad Niaz
;
Quazi D. M. Khosru
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
7.
BaTiO_3 film grown by water-based process
机译:
Batio_3薄膜由水基过程种植
作者:
Sarmad Fawzi Hamza Alhasan
;
Hussain Abouelkhair
;
Robert. E. Peale
;
Isaiah. O. Oladeji
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
8.
(Invited) Trench-gated MOSFET instability caused by high temperature reverse-bias stress
机译:
(邀请)沟槽门控MOSFET不稳定,由高温反向偏置应力引起
作者:
Jifa Hao
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
9.
Two States Phenomenon Induced by Neighboring Device Coupling Effect in MIS(p) Tunnel Current
机译:
在MIS(P)隧道电流中相邻设备耦合效应引起的两个状态现象
作者:
Wei-Chih Kao
;
Jun-Yao Chen
;
Jenn-Gwo Hwu
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
10.
Characterization of Buried Interfaces with Scanning Probe Microscopes
机译:
扫描探针显微镜的埋地界面的特征
作者:
Joseph J. Kopanski
;
Lin You
;
Jennifer Li
;
Jungjoon Ahn
;
Yaw S. Obeng
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
11.
Broadband Spectroscopic Characterization of Electrically Active Defects in Dielectrics: Monitoring the in-Service Evolution of Dielectrics in Integrated System
机译:
电介质中电活性缺陷的宽带光谱表征:监测集成系统中电介质的在线演变
作者:
Yaw S. Obeng
;
Chukwudi A. Okoro
;
Papa K. Amoah
;
Lin You
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
12.
Decoupling of Ion Diffusivity and Electromobility in Porous Dielectrics
机译:
多孔电介质中离子扩散性和电动性的去耦
作者:
Y. Fan
;
R. Ali
;
S. King
;
J. Bielefeld
;
M. Orlowski
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
13.
Electrical Properties and Nanoresistive Switching of Ni-HfO_2-Si Capacitors
机译:
Ni-HFO_2-SI电容器的电性能和纳米电容器
作者:
H. Garcia
;
M. B. Gonzalez
;
C. Vaca
;
H. Castan
;
S. Duenas
;
F. Campabadal
;
E. Miranda
;
L. Bailon
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
14.
Non-Volatile Resistive Memory: Technology Capable of Revolutionary Compromises
机译:
非易失性电阻记忆:能够革命妥协的技术
作者:
G. Navarro
;
E. Vianello
;
V. Sousa
;
G. Molas
;
E. Nowak
;
B. De Salvo
;
L. Perniola
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
15.
Process and Integration of Dielectrics Required for 10nm and Beyond Scaling
机译:
10nm及超出缩放所需的电介质的过程和集成
作者:
R. D. Clark
;
K. N. Tapily
;
S. P. Consiglio
;
T. Hakamata
;
D. OMeara
;
D. Newman
;
M. Collings
;
D. Szymanski
;
C. S. Wajda
;
G. J. Leusink
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
16.
Characterization of SiO_x/HfO_x bilayer Resistive-Switching Memory Devices
机译:
SIO_X / HFO_X双层电阻切换存储器件的表征
作者:
Ying-Chen Chen
;
Yao-Feng Chang
;
Xiaohan Wu
;
Meiqi Guo
;
Burt Fowler
;
Fei Zhou
;
Chih-Hung Pan
;
Ting-Chang Chang
;
Jack C. Lee
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
17.
Development of in situ Electrochemical Small-Angle Neutron Scattering (eSANS) for Simultaneous Structure and Redox Characterization of Nanoparticles
机译:
纳米颗粒的同时结构和氧化还原特征的原位电化学小角中子散射(ESANs)的发展
作者:
Vivek M. Prabhu
;
Vytas Reipa
;
Adam J. Rondinone
;
Eric Formo
;
Peter V. Bonnesen
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
18.
The Defects of ZnO Nanorods Passivated By Ultra-Thin Al_2O_3 Film
机译:
通过超薄Al_2O_3膜钝化ZnO纳米棒的缺陷
作者:
Shibin Li
;
Detao Liu
;
Peng Zhang
;
Yafei Wang
;
Hojjatollah Sarvari
;
Yaoyu Xuan
;
Zhi David Chen
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
19.
A Comprehensive Analytical Study of Subthreshold Swing for Cylindrical Gate-All-Around Junctionless Field Effect Transistor
机译:
圆柱形栅极围绕无线电场效应晶体管临划线摆动的综合分析研究
作者:
Imtiaz Ahmed
;
Quazi D. M. Khosru
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
20.
Defect spectroscopy and engineering for nanoscale electron device applications: a novel simulation-based methodology
机译:
纳米级电子设备应用的缺陷光谱和工程:一种新型仿真方法
作者:
L. Larcher
;
G. Sereni
;
L. Vandelli
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
21.
Gate-All-Around Nanowire FETs vs. Triple-Gate FinFETs: on Gate Integrity and Device Characteristics
机译:
门 - 全部纳米线FET与三栅极FinFET:在栅极完整性和器件特性上
作者:
A. Veloso
;
M. J. Cho
;
E. Simoen
;
G. Hellings
;
P. Matagne
;
N. Collaert
;
A. Thean
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
22.
Lateral Non-uniformity Reduction by Compensatory Metal Embedded in MOS Structure with Ultra-Thin Anodic Oxide
机译:
通过用超薄阳极氧化物嵌入MOS结构中的补偿金属的横向不均匀性减少
作者:
Jun-Yao Chen
;
Wei-Chih Kao
;
Jenn-Gwo Hwu
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
23.
Ternary rare earth based oxides for Nitride based devices
机译:
基于氮化物装置的三元稀土氧化物
作者:
T.C.U. Tromm
;
A. Schaefer
;
M. Luysberg
;
F. Wendt
;
A. Besmehn
;
M. Mikulics
;
H. Hardtdegen
;
S. Mantl
;
J. Schubert
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
24.
Ⅲ-Ⅴ selective area growth and epitaxial functional oxides on Si: from Electronic to Photonic devices
机译:
Ⅲ-Ⅳ型选择性地区生长和外延官能氧化物在Si:电子到光子器件
作者:
C. Merckling
;
Z. Liu
;
M. Hsu
;
S. Hasan
;
S. Jiang
;
S. El-Kazzi
;
G. Boccardi
;
N. Waldron
;
Z. Wang
;
B. Tian
;
M. Pantouvaki
;
J. Van Campenhout
;
N. Collaert
;
M. Heyns
;
D. Van Thourhout
;
W. Vandervorst
;
A. Thean
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
25.
Effect of Cu Drift on Dielectric Breakdown for Porous Low Dielectric Constant Film under Static and Dynamic Stress
机译:
Cu漂移对静态应力下多孔低介电常数膜介电击穿的影响
作者:
Yi-Lung Cheng
;
Yao-Liang Huang
;
Chung-Ren Sun
;
Wen-Hsi Lee
;
Giin-Shan Chen
;
Jau-Shiung Fang
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
26.
Atomically Controlled Processing for Si and Ge CVD Epitaxial Growth
机译:
Si和Ge CVD外延生长的原子控制处理
作者:
Junichi Murota
;
Yuji Yamamoto
;
Ioan Costina
;
Bernd Tillack
;
Vinh Le Thanh
;
Roger Loo
;
Matty Caymax
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
27.
Non-destructive Characterization of Dielectric - Semiconductor Interfaces by Second Harmonic Generation
机译:
二次谐波产生介质 - 半导体界面的非破坏性表征
作者:
I. Ionica
;
D. Damianos
;
A. Kaminski
;
G. Vitrant
;
D. Blanc-Pelissier
;
J. Changala
;
M. Kryger
;
C. Barbos
;
S. Cristoloveanu
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
28.
Tunnel-Barrier Rectifiers for Optical Nantennas
机译:
光学裸弯的隧道屏障整流器
作者:
I. Z. Mitrovic
;
A. D. Weerakkody
;
N. Sedghi
;
S. Hall
;
J. F. Ralph
;
J. S. Wrench
;
P. R. Chalker
;
Z. Luo
;
S. Beeby
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
29.
A complete suite of experimental techniques for electrical characterization of conventional and incoming high-k dielectric-based devices
机译:
一种完整的套件,用于传统和传入的高k个介质器件的电气表征的实验技术
作者:
S. Duenas
;
H. Castan
;
H. Garcia
;
T. Arroval
;
A. Tamm
;
K. Kukli
;
J. Aarik
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
30.
Floating Gate Type SOI-FinFET Flash Memories with Different Channel Shapes and Interpoly Dielectric Materials
机译:
浮栅型SOI-FINFET闪存具有不同通道形状和互介电材料
作者:
Y. X. Liu
;
T. Nabatame
;
T. Matsukawa
;
K. Endo
;
S. Ouchi
;
W. Mizubayashi
;
Y. Morita
;
S. Migita
;
H. Ota
;
T. Chikyow
;
M. Masahara
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
31.
On The Modeling of the Charge Pumping Curves
机译:
关于电荷泵曲线的建模
作者:
D. Bauza
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
32.
Characterization of Porous BEOL Dielectrics for Resistive Switching
机译:
电阻切换多孔BEOL电介质的表征
作者:
Y. Fan
;
S. King
;
J. Bielefeld
;
M. Orlowski
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
33.
Effects of Precursor Flow Rates on Characteristics of Low-k SiOC(H) Film Deposited by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
机译:
前体流速对等离子体增强化学气相沉积沉积的低kSiOC(h)膜特性的影响
作者:
Yi-Lung Cheng
;
Chiao-Wei Huang
;
Chung-Ren Sun
;
Wen-Hsi Lee
会议名称:
《International symposium on dielectrics for nanosystems》
|
2016年
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