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离子轰击引起的场致发射体发射电流跌落的研究

机译:离子轰击引起的场致发射体发射电流跌落的研究

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摘要

在场致发射器件中 ,发射电流通常会随着工作时间的增加而跌落 .发射电流跌落的机理较为复杂 .本文模拟分析了一次电子从场致发射发射体表面的发射情况 .根据一次电子的电流密度分布和运动轨迹 ,研究残余气体分子的电离 .然后计算正离子在电场中的运动轨迹 ,利用半经验模型分析不同能量的正离子对发射体表面的损伤情况 。
机译:在场致发射器件中,发射电流通常会随着工作时间的增加而跌落.发射电流跌落的机理较为复杂.本文模拟分析了一次电子从场致发射发射体表面的发射情况.根据一次电子的电流密度分布和运动轨迹,研究残余气体分子的电离.然后计算正离子在电场中的运动轨迹,利用半经验模型分析不同能量的正离子对发射体表面的损伤情况,最后估计出在不同残余气压和一次电流下发射电流的衰减.

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