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李斌; 林丽; 黄云; 钮利荣;
华南理工大学物理科学与技术学院;
电子元器件可靠性物理及其应用技术国家级重点实验室;
南京电子器件研究所;
GaAs; MMIC; 击穿; 寿命预测; TDDB; 氮化硅;
机译:原子层沉积TiAlO合金电介质的块状GaAs和外延GaAs / Ge的表面钝化和界面性质
机译:Gd_2O_3钝化层对GaAs上原子层沉积ZrO_2栅极电介质的界面和电学性能的影响
机译:SiO2 / Si3N4和SiNx / Si3N4双层钝化的AlGaN / GaN结构的电容电压和俄歇化学性质研究
机译:具有高k电介质和MOCVD种植ZnO接口钝化层的GaAs上的金属氧化物半导体器件
机译:使用远程等离子处理的栅极电介质和钝化层的氮化镓-电介质界面形成。
机译:外延原位SiO2钝化(100)利用TaSiOx原子层沉积工艺制备和(110)InGaAs
机译:用于具有沟道反转的InGaAs增强模式金属氧化物半导体场效应晶体管的Ga2O3(Gd2O3)/ Si3N4双层栅极电介质
机译:高击穿电压mEsFET,具有低温生长的Gaas钝化层和重叠栅极结构。 (重新公布新的可用性信息)
机译:用于半驱动器装置的由钝化层组成的,包括氮化硅层(si3n4)和磷硅酸盐玻璃层((psg))的钝化层及其制造方法
机译:使用硅氮化物层(SI3N4)和磷化玻璃层(PSG)钝化集成电路的过程
机译:用于半导体器件的钝化化合物,包括硅氮化物层(SI3N4)和磷化玻璃层(PSG)及其制造方法
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