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任红霞; 张晓菊; 郝跃;
西安电子科技大学微电子研究所;
槽栅PMOSFET; 施主界面态密度; 栅极特性; 漏极电流驱动能力; 特性退化;
机译:通过栅控二极管测量表征深亚微米MOSFET中的界面退化
机译:从电流-电压特性确定亚微米器件中栅金属与半导体之间的界面态的能级分布
机译:质子辐射引起的间隔物损伤对深亚微米金属氧化物半导体场效应晶体管直流特性退化的影响
机译:热载流子引起的超薄,全耗尽,深亚微米nMOS和pMOS SOI晶体管的退化
机译:蒙特卡洛研究了低功率深亚微米n-MOSFET中的热载流子退化和器件性能。
机译:亚微米深流体通道中绝缘介电电泳引起的DNA大分子的尺寸依赖性轨迹
机译:通过栅漏电容测量评估亚微米n(金属氧化物半导体场效应晶体管)中热孔诱导的界面态和俘获的载流子
机译:比较热载流子引起具有H或D钝化界面的0.25(微米)mOsFET中的退化
机译:在深亚微米CMOS技术中提高厚栅氧化物接地栅NMOSFET的ESD鲁棒性的注入方法
机译:用形成亚微米接触的方法制造亚微米NMOS,PMOS和CMOS器件的方法
机译:亚毫米级导电栅板具有sabumirimetoruapachiya的掩模的制造方法,亚微米级导电栅板具有sabumirimetoruapachiya的掩模和亚毫米级导电栅板
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