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自组织InAs/GaAs岛状结构生长停顿研究

         

摘要

报道了自组织生长InAs/GaAs岛状结构生长停顿的研究结果.在完成InAs岛生长以后,引入不同时间的停顿,然后再淀积GaAs盖层,将导致InAs岛光致发光峰蓝移,发光谱线变宽,同时发光强度减弱.透射电子显微镜分析表明在这种结构中出现了失配位错,在其附近应变得到部分弛豫,成为InAs材料的俘获陷阱.随着停顿时间加长,InAs岛密度降低,尺寸变小,光致发光谱发生相应变化.

著录项

  • 来源
    《红外与毫米波学报》 |1997年第5期|335-338|共4页
  • 作者单位

    中国科学院半导体研究所,超晶格微结构国家重点实验室,北京,100083;

    中国科学院北京电子显微镜实验室,北京,100080;

    中国科学院北京电子显微镜实验室,北京,100080;

    中国科学院半导体研究所,超晶格微结构国家重点实验室,北京,100083;

    中国科学院半导体研究所,超晶格微结构国家重点实验室,北京,100083;

    中国科学院半导体研究所,超晶格微结构国家重点实验室,北京,100083;

    中国科学院半导体研究所,超晶格微结构国家重点实验室,北京,100083;

    中国科学院半导体研究所,超晶格微结构国家重点实验室,北京,100083;

    中国科学院半导体研究所,超晶格微结构国家重点实验室,北京,100083;

    中国科学院北京电子显微镜实验室,北京,100080;

    中国科学院北京电子显微镜实验室,北京,100080;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 一般性问题;
  • 关键词

    InAs/GaAs; 量子点; 生长停顿;

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