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直流磁控溅射法制备γ-Al2O3薄膜的介电特性

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摘要

高密度储能电容器是当前研究的热点,为探究氧化铝薄膜在高密度电容器中潜在的应用,采用直流磁控溅射方法制备了氧化铝薄膜,薄膜质地均匀致密,表面平整光滑.X射线衍射谱分析表明制备的薄膜属于γ晶型的氧化铝.薄膜具有优良的介电性能,氧化铝薄膜电容器理论储能密度约为7.6 J/cm3.

著录项

来源
《河南理工大学学报（自然科学版）》 |2016年第3期|440-444|共5页
作者
胡保付; 杜保立; 刘振深;
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作者单位

河南理工大学物理化学学院,河南焦作 454000;

河南理工大学物理化学学院,河南焦作 454000;

河南理工大学物理化学学院,河南焦作 454000;

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正文语种 chi
中图分类无机质材料;功能材料;
关键词
直流磁控溅射; 氧化铝薄膜; 介电常数; 高能量密度;

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