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王必本; 王万录; 廖克俊; 肖金龙;
重庆大学理学院应用物理系;
热灯丝CVD; 负衬底偏压; 活性离子; 金刚石膜; 沉积;
机译:CVD金刚石偏压增强成核过程中离子轰击作用的理论分析
机译:偏压引起的金刚石膜在等离子体增强的热丝化学气相沉积中的两步过程引起的结构演变
机译:热丝化学气相沉积系统中偏压增强成核和H_2 / CH_4 / Ar混合物的金刚石膜生长动力学
机译:使用负偏压辅助CVD在硅基衬底上氮化钛的多晶金刚石的生长
机译:用于大面积金刚石膜沉积的热丝CVD反应器中的多丝阵列和衬底支架的设计
机译:封闭热丝CVD系统中金刚石膜的沉积
机译:钻石电影的特殊问题/沉积方法,表征和应用。使用磁性活性等离子体CVD和微波等离子体CVD沉积金刚石膜。
机译:生物膜覆盖活性炭颗粒作为微生物接种系统在污染沉积物中增强pCBs生物强化的应用
机译:等离子体增强化学气相沉积(CVD)方法填充半导体衬底中的沟槽
机译:用cvd沉积金刚石膜之前对sintercarbid衬底进行处理
机译:等离子体CVD膜沉积系统,确认等离子体点火的方法,确认CVD膜的性质的方法以及确认系统污点的方法
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