机译:热丝化学气相沉积系统中偏压增强成核和H_2 / CH_4 / Ar混合物的金刚石膜生长动力学
Thin Film Technology Lab, School of Chemical Engineering, Chonbuk National University, Duckjin-dong 1 ga, Chonju, Chonbuk 561-756, Republic of Korea;
A1. microstructure; A3. hot-filament chemical vapor deposition; B1. argon addition; B1. diamond;
机译:使用热丝化学气相沉积和Ar / CH_4 / H_2气体混合物沉积超纳米晶金刚石膜的实验和建模:超纳米晶金刚石生长的一般机制
机译:微波等离子体通过偏压增强成核和偏压增强生长增强了纳米晶金刚石膜的化学气相沉积
机译:通过大面积热灯丝化学气相沉积偏置的大面积覆盖金刚石薄膜的基本面,增强了成核/偏置,增强了生产广泛多功能装置的增长
机译:热丝化学气相沉积系统生长多晶金刚石薄膜的结构与性能
机译:化学气相沉积金刚石和非晶硅碳合金薄膜生长和成核的研究
机译:使用He / H2 / CH4 / N2气体混合物通过微波等离子体化学气相沉积法合成超光滑纳米结构金刚石膜
机译:微波测量CH_4 / H_2 / N_2等离子体增强化学气相沉积过程中氮掺杂金刚石薄膜的椭偏研究