三氯乙酸阴离子表面印迹材料的制备及其识别特性

摘要

使用偶联剂γ-氨丙基三甲氧基硅烷(AMPS)对微米级硅胶微粒进行表面改性,制得表面键合有氨基的改性硅胶微粒AMPS-SiO2.在水溶液体系中,凭借静电相互作用,三氯乙酸(TCAA)阴离子与阳离子单体丙烯酰氧乙基三甲基氯化铵(DAC)相结合;溶液中的过硫酸盐与改性微粒AMPS-SiO2表面的氨基构成氧化还原引发体系,在硅胶微粒表面产生自由基,使DAC及交联剂N,N '-亚甲基双丙烯酰胺(MBA)在硅胶微粒表面的接枝交联聚合与TCAA阴离子的表面印迹同步进行;洗脱模板离子后,制得了TCAA阴离子表面印迹材料ⅡP-PDAC/SiO2.以化学结构与TCAA十分相似的一氯乙酸(MCAA)为对比物,采用静态结合、动态结合及竞争性吸附等实验方法,深入考察研究了阴离子表面印迹材料ⅡP-PDAC/SiO2对TCAA阴离子的识别与结合性能.研究结果表明,TCAA阴离子表面印迹材料ⅡP-PDAC/SiO2对TCAA具有良好的的识别选择性与结合亲和性,相对于MCAA阴离子,ⅡP-PDAC/SiO2对TCAA阴离子的识别选择性系数为3.612.