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热丝辅助ECR-CVD制备a-Si:H薄膜的红外和光致衰退研究

             

摘要

采用热丝辅助MWECR-CVD系统制备出了a-Si:H薄膜.应用傅立叶红外仪测量了薄膜的红外谱,用共面蒸铝电极法测量了薄膜的光电导.通过比较A样品(加入热丝)和B样品(未加热丝),得出在热丝辅助MWECR-CVD系统制备非晶硅薄膜过程中,热丝的光照对薄膜的抗衰退起到了关键作用,用该系统制备非晶硅薄膜,大大降低了薄膜中的总氢含量,提高了薄膜的稳定性,同时,Si-H键合体的摇摆模发生了红移.

著录项

  • 来源
    《功能材料》 |2004年第z1期|3181-3183|共3页
  • 作者单位

    北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022;

    北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022;

    北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022;

    北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022;

    北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022;

    北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022;

    北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022;

    北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022;

    北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜测量与分析;
  • 关键词

    非晶硅; 红外; 光致衰退;

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