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马春雨; 李智; 张庆瑜;
大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024;
大连大学,机械工程系,辽宁,大连,116622;
反应RF磁控溅射法; 氧化锆薄膜; 表面粗糙度; 高介电常数;
机译:射频磁控溅射制备高取向(Zr-0.8,Sn-0.2)TiO4薄膜的光学和介电性能
机译:射频磁控溅射制备ZrO2和YSZ高k栅介电薄膜的物理和电学性质
机译:射频磁控溅射PbO_x缓冲层制备高(100)取向Pb(Zr_(0.2)Ti_(0.8))O_3薄膜的制备及性能
机译:射频磁控溅射制备PCB嵌入铋锌铌酸盐薄膜的介电性能
机译:射频磁控溅射沉积的氧化钇稳定的氧化锆薄膜的结构和材料性能评估。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:直流反应磁控溅射制备氧化锆薄膜的性能研究
机译:射频和直流磁控溅射制备电解质和电极薄膜的性能
机译:用射频磁控溅射法和薄膜太阳能电池用射频薄膜制备木质薄膜的方法
机译:形成高介电薄膜的涂料组合物,其制备方法和使用该薄膜形成的高介电薄膜
机译:高介电薄膜,形成高介电薄膜的材料和形成高介电薄膜的方法
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