机译:射频磁控溅射制备高取向(Zr-0.8,Sn-0.2)TiO4薄膜的光学和介电性能
(zr-0; 2,sn-0; 8)tio4 (zst) thin film; Rf sputtering; Optical properties; Dielectric properties; Spectroscopic ellipsometry; Microwave characteristics; Ceramics; Zrtio4; Microstructure; (zr,sn)tio4;
机译:射频磁控溅射制备的超光滑纳米BiVO_4纳米晶薄膜的光学常数,色散能参数和介电性能
机译:射频磁控溅射PbO_x缓冲层制备高(100)取向Pb(Zr_(0.2)Ti_(0.8))O_3薄膜的制备及性能
机译:由RF磁控溅射制备的金属 - 介电复合材料的多层薄膜结构的光学和色度性能
机译:通过反应性RF溅射制备高度取向锆钛酸锆薄膜的介电性能
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:由RF磁控溅射制备的金属 - 介电复合材料的多层薄膜结构的光学和色度性能