硅基图案化HfO2表面微结构的制备和表征

谈国强; 博海洋; 苗鸿雁; 夏傲; 贺中亮

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硅基图案化HfO2表面微结构的制备和表征

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结合光刻印技术和HfO2液相自组装沉积成膜技术,在单晶硅表面成功地制备了具有微米级图案结构的HfO2薄膜,该硅基图案化HfO2微结构近来在工业界特别是微电子领域引起极度的关注.X射线衍射(XRD)与扫描电镜(SEM)显示,在图案区域成功制备了HfO2薄膜,EDS能谱测试显示了图案区域的HfO2薄膜的化学组成.

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来源
《功能材料》 |2009年第10期|1660-1662|共3页
作者
谈国强; 博海洋; 苗鸿雁; 夏傲; 贺中亮;
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作者单位

陕西科技大学,教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室,陕西,西安,710021;

陕西科技大学,教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室,陕西,西安,710021;

陕西科技大学,教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室,陕西,西安,710021;

陕西科技大学,教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室,陕西,西安,710021;

陕西科技大学,教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室,陕西,西安,710021;

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正文语种 chi
中图分类薄膜技术;钛副族（ⅣＢ族）元素的无机化合物;
关键词
微图案; 光刻印; HfO2微结构;

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