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机译:通过选择性化学气相沉积法在聚甲基丙烯酸甲酯图案化的硅基板上制备非常细的铜线
NCSR "Demokritos," Institute of Microelectronics, P.O. Box 60228, 153 10 Agia Paraskevi, Greece;
机译:通过选择性化学气相沉积在AZ 5214〜(TM)图案化硅基板上制造细铜线
机译:通过在硅基底上进行选择性化学气相沉积来制造细铜线
机译:在AZ 5214〜tm图案化的硅基板上进行选择性的铜化学气相沉积
机译:通过选择性化学气相沉积在AZ 5214〜(TM)图案化硅基板上的细铜线的制造
机译:基于外延锗层的金属氧化物半导体器件,通过超高真空化学气相沉积直接在硅衬底上选择性生长
机译:汽液化学气相沉积法在钽基板上制备InxGa1-xN纳米线
机译:通过单源二硒醚前体对二硒化锡薄膜进行高选择性化学气相沉积到图案化基板上
机译:用于金纳米粒子选择性沉积的二氧化硅基板的化学图案化及单电子晶体管的制作