静电辅助的气溶胶化学气相沉积法制备Y2O3薄膜

摘要

采用静电辅助的气溶胶化学气相沉积的方法成功地在Si（100）衬底上制备了Y2O3薄膜,利用X射线衍射（XRD）、场发射扫描电镜（FE-SEM）、原子力显微镜（AFM）和X射线光电子能谱（XRP）对薄膜进行了表征.SEM分析结果显示,薄膜的颗粒为纳米级的,并且薄膜致密、平整.AFM分析结果表明,薄膜的粗糙度为11nm.由XPS分析可知,薄膜为基本上符合化学计量比的氧化物.附着力测试表明,Y2O3薄膜与Si衬底的附着力为4.2N.X射线衍射分析结果表明,沉积得到的Y2O3薄膜在热处理前为非晶结构,热处理之后薄膜具有立方晶体结构,并且沿（111）面择优生长.