等离子体辅助化学气相沉积法生长ZnO薄膜的研究

摘要

讨论了在不同基板温度下用等离子体辅助化学气相沉积法生长ZnO薄膜,用X射线衍射(XRD)分析仪、反射式高能电子衍射(RHEED)仪及X射线光电子能谱(XPS)分析ZnO薄膜的特征。分析结果显示,在基板温度为300℃,二乙基锌(DEZ)流量为50 mL/min条件下可得到优取向高晶化的ZnO薄膜。光学性能分析表明,ZnO薄膜是透明的,在可视区峰值透光率高达85%。