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周坤;
中国兵器工业第214研究所 蚌埠233042;
离子注入; 束流; 剂量; 均匀性;
机译:用于离子注入均匀性控制的新型像素传感器
机译:在线控制单晶片工艺中的工艺均匀性
机译:用于FinFET或深沟槽掺杂应用的等离子浸入离子注入对3D掺杂的仿真。主要工艺参数的影响以及壁掺杂不均匀性随形状因数和器件缩放的影响
机译:使用PVD两步氮化钛阻挡层工艺的优势,以及由于钨膜的不均匀性,钨膜沉积产生的残留副产物对工艺集成的影响。
机译:通过低温快速热退火工艺控制生长高均匀性的硒化铟(In2Se3)纳米线
机译:通过在低温下通过快速热退火工艺控制生长高均匀性硒化烯烃(In2Se3)纳米线
机译:离子注入均匀性的计算
机译:正性抗蚀剂组合物的离子注入工艺和使用该离子注入工艺的离子注入方法
机译:用于使用宽束制造半导体器件的离子注入设备以及使用该离子注入设备改善宽束均匀性的方法
机译:用于控制离子注入均匀性的设备和技术
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