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牟维兵; 徐曦;
中国工程物理研究院,电子工程研究所,四川,绵阳,621900;
场效应管; 吸收剂量; 阈电压;
机译:长期低剂量率辐照下N沟道MOS晶体管表面缺陷的研究
机译:γ辐照N沟道MOSFET漏极电流和阈值电压的SPICE模型提取参数
机译:短沟道MOS场效应管-多壁自对准MOS场效应管的新制造方法
机译:低k材料作为CMOS中的层间电介质:沉积和处理对N沟道MOSFET特性的影响。
机译:GE N沟道MOSFET具有ZrO2电介质实现改进的移动性
机译:8 meV电子辐照双N沟道mOsFET的跨导和传输特性
机译:蓝宝石绝缘栅场效应晶体管(IGFET)上N沟道硅的电子辐照
机译:场效应管N沟道MOSFET器件,曾经是电子设备的可编程存储单元,其源极的掺杂比漏极高,其中从沟道到漏极的掺杂杂质浓度梯度很高
机译:用于薄外延RESURF集成电路的n沟道和p沟道MOS器件为零高张力,其中它包括HVp沟道和n沟道
机译:具有n沟道型MOS晶体管的半导体器件,该n沟道型MOS晶体管的栅极电极层具有小的平均多晶硅晶粒尺寸
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