Ni-Al薄膜的制备和电性能研究

摘要

用双靶直流磁控共溅射制备了NixAl(1-x)(0.75＜x＜0.8)金属间化合物薄膜及掺氧Ni-Al薄膜.利用AFM、SEM-EDS、XRD对Ni-Al合金薄膜的表面形貌、组分和晶相结构进行了表征和分析.结果表明,制备的合金薄膜表面致密平整,结晶良好,且具有(111)择优取向.合金薄膜电阻随温度呈线性变化,表现为正的电阻温度系数.氧气的引入阻碍了薄膜的晶化过程使薄膜表面粗糙度增加,晶粒细化,薄膜具有不同于合金薄膜的导电机理.